日本Die Gate M-200型钙钛矿实验室狭缝涂布机

日本Die Gate M-200型钙钛矿实验室狭缝涂布机应用领域

Die Gate M-200型钙钛矿实验室狭缝涂布机主要应用于OPV光伏太阳能电池，OLED，太能阳钙钛矿电池，抗震剂，燃料电池，铝铜箔二次电池，玻璃抗蚀剂，彩色抗蚀剂，抗色剂，碳油墨，陶瓷，硬涂层、有机EL、胶粘剂，锂电池，导电涂料、绝缘漆、超导材料，正负极材料、热塑性树脂、UV固化树脂、防水剂，等离子显示器、液晶薄膜，蓄电池、感光乳剂，雾化涂层，浸渍玻璃纤维，AR/AG、碳纳米管、AG纳米银线、光伏、全个体电池、防污涂层，PET铜沉积替代FPC，玻璃基板，电容器，导电胶片，荧光涂料，银纳米线，CNP，玻璃粘合剂，RTR，多孔橡胶浸渍，LIB，聚合物，PV，TiO2，防过流软磁铁粉等

主要特点

日本Die Gate M-200型实验室Slot Die狭缝挤出式片对片涂布机应用：Wet-On-Wet涂层，双狭缝双层同时涂布，间歇图案涂层，条纹涂层，Min0.3 mm宽，两种液体同时独立挤出涂层，浸渍/半浸渍涂层，双面涂布，滚筒式涂布

模头加温：支持热塑性树脂，胶凝液，可加热至200°C。

凹口自动清洁装置：用刷子清洁，喷雾清洁和空气干燥唇尖。

间歇式涂布液供应装置：将涂布液取出后，从罐中填充涂布液。

即干即排气装置：与涂模平排安装，涂模后立即热风干燥并排气。

涂层后的相框状态防止技术

日本Die Gate M-200型实验室Slot Die狭缝挤出式片对片涂布机适用基材：玻璃、薄膜、金属箔、树脂板、金属纤维等

日本Die Gate M-200型实验室Slot Die狭缝挤出式片对片涂布机更多的模具设计：它拥有10多种不同的模具设计，可以适应任何涂布液体。

体积小、重量轻：超小型，轻涂布部/控制部分离型

涂布液量：即使在极小容量6cc以下也可以取样，不会浪费液体

基材吸附：开口5 μ的吸附盘，吸附标记，干燥不出现不均匀

液体交换：易于模架组装，换液时间为1.5分钟

易用性：模头悬停，正面开放，操作方便

重现性：结构简单，重复性高

模具设计：配合涂布液可应对各种设计

Die Gate M-200型钙钛矿实验室狭缝涂布机技术参数