排胶烧结炉
Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N
- 简介:Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用于Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件，非氧化物陶瓷脱气、真空和加压烧结处理、为内热式真空炉。
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Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用领域
Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用于Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件，非氧化物陶瓷脱气、真空和加压烧结处理、为内热式真空炉。
Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N技术规格
| 有效加热区域 | 200*200mm |
| 处理量 | 10Kg |
| 使用温度 | Max:2200 ℃(30分定额、大气压流、加压烧结) |
| 极限真空 | 7×10-1 Pa･A(空炉、室温、充分脱气后) |
| 使用气体 | N2 、Ar |
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