排胶烧结炉

  • Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N
Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N

Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N

  • 简介:Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用于Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件,非氧化物陶瓷脱气、真空和加压烧结处理、为内热式真空炉。

Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用领域

Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N应用于Si₃N₄氮化硅基板、Si₃N₄氮化硅轴承球、 Si₃N₄氮化硅结构件,非氧化物陶瓷脱气、真空和加压烧结处理、为内热式真空炉。

Shimadzu岛津氮化物实验型真空多功能烧结炉PVSGgr20/20N技术规格

有效加热区域200*200mm
处理量10Kg
使用温度Max:2200 ℃(30分定额、大气压流、加压烧结)
极限真空 7×10-1 Pa・A(空炉、室温、充分脱气后)
使用气体N2 、Ar

shimadzu_pressure_vacuum_vintering_furnace_pvsggr20_20n.png